OTFC-1100

特征

真空室尺寸：Φ600-1800mm

60點(diǎn)/80點(diǎn)式光學(xué)膜厚監(jiān)控

使用均勻分布的高離子電流密度的離子源

搭載雙電子槍，多點(diǎn)和環(huán)型坩堝可鍍100層以上

利用自動(dòng)蒸鍍控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)蒸鍍過程

工件架可選擇鐘罩式或行星式

排氣系統(tǒng)可選擇擴(kuò)散泵+低溫冷凝器(POLYCOLD)或冷凝泵

規(guī)格

設(shè)備名稱 OTFC-1100CBI/DBI

真空室 SUS304, φ1100mm×1520mm (H)

工件架 φ950mm

工件架轉(zhuǎn)速 10rpm to 50rpm(可變)

光學(xué)膜厚控制 HOM2-R-VIS350A光學(xué)膜厚監(jiān)控儀
波長(zhǎng)范圍:350nm to 1100nm
反射式/透射式可選

水晶式膜厚計(jì) XTC/3+6點(diǎn)式水晶傳感器

蒸發(fā)源 電子槍2套

離子源 17cmRF離子源

排氣系統(tǒng) 機(jī)械泵+2個(gè)擴(kuò)散泵+Polycold（或2個(gè)冷凝泵）

性能

達(dá)到壓力 7.0×10-5Pa以下

排氣時(shí)間 15分（大氣壓～1.3×10-3Pa）

基板溫度 最高：350℃

工作條件

設(shè)備尺寸 約5000mm(W)×6000mm(D)×3300mm(H)

電源 3相,200v,50/60Hz, 約100KVA

水流量 120升/分以上

空氣壓力 0.5MPa以上

重量 約7200kg