Gener-1300

特征

采用了磁流體密封技術的中心旋轉(zhuǎn)式基板架，保證了薄膜產(chǎn)品的重復性與均勻性

優(yōu)化的排氣特性和升溫能力使鍍膜時間縮短

可以加裝用于對應高精度AR鍍膜的多層膜用可靠的光控儀 (optional)

規(guī)格

真空室 SUS304,Ф1300mm×1500mm(H)

基板架 4片式工作架（或Ф1200 mm）

基板架轉(zhuǎn)速 最大30rpm(可調(diào))

晶振式膜厚計 XTC/3+6點式水晶傳感器

蒸發(fā)源 電子槍1臺

性能

極限真空 7.0 × 10-5 Pa 以下

抽氣速度 10分（大氣壓～3.0×10-3Pa）

基板最高加熱溫度 最高350℃

工作條件

安裝空間 約4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)

電力 3相，200V，50/60Hz，約80KVA

水流量 100升/分以上

壓縮空氣壓力 0.5-0.7MPa

重量 約5000kg